日照发明专利与实用新型专利的区别在哪？如果两个同时申请需要注意哪写问题
不带任何感情色彩的说，发明和实用新型的区别就以下几点：
1、发明可以保护的客体包括产品结构、物质组成成分、制造工艺和方法以及上述的结合；实用新型保护的客体只有产品的具体结构。这是两者的根本区别。所以在准备实用新型的申请材料时，如果权利要求中含有物质组成成分、制造工艺和方法等描述的话，是会被直接以不符合专利法第2条第2款的规定驳回的。
2、发明的保护期限是20年，实用新型的保护期限是10年。这是两者在保护年限上的区别。
3、发明需要经过初审-公开-实质审查-授权/驳回这一系列过程，实用新型只有初审-公布/驳回这两个流程。
4、在创造性的要求上，发明要求具有突出的实质性特点和显著的进步，实用新型仅要求具有实质性特点和进步即可。所以有时候会被误认为实用新型的价值没有发明高（这个误区到目前仍然非常深，深到实用新型被看不起，可殊不知，目前国内专利侵权赔偿最高的案件，就是由一件实用新型引起的，似乎至今仍未被突破，感兴趣的可以搜“正泰VS施耐德专利侵权纠纷案”）
5、其他的，在资助补贴上，很多地方发明的资助补贴额要远超实用新型。
6、目前仅有中、日、韩、德、法、俄几个国家有实用新型专利。
7、发明代理费几乎是实用新型代理费的两倍以上。
说完了区别再来说说有没有必要两个一起申请：
如果资金充裕，建议两个一起申请，这样实用新型可以较快获得授权，如果发明最终也能获得授权，那么只要稍微修改发明的权利要求跟实用新型有不同即可再获得授权，不仅拥有了两件专利，还获得了较长的保护期限。当然也可以选择放弃实用新型来获得发明的授权，用经过实质审查检验的那个专利来保护自己的权益。
双申唯一有一个不好的地方就是：得交两份专利年费。
联系我时，请说是在日照便民网看到的，谢谢！